尼康在近期发布的2025财年第三财季财报演示文稿中，披露了一项重大研发计划。据悉，该公司正携手合作伙伴，致力于开发一款能够融入ASML主导的浸没式ArF光刻生态系统的新型光刻机。这款产品的目标上市时间定为2028财年，即2027年4月至2028年3月期间。
在浸没式ArF光刻领域，ASML凭借其先进的TWINSCAN双工件台技术，已经占据了超过九成的市场份额。而尼康，作为该领域的另一位主要参与者，正寻求提升其在市场中的占比，目标是将份额提高到与干式ArF领域相当的水平。
尼康认为，随着DRAM内存和逻辑半导体技术向三维方向发展，浸没式ArF光刻的需求将会持续增长。为了从ASML手中争取更多的ArFi订单，尼康计划使其正在开发的光刻机与ASML的同类设备生态系统兼容，这将有助于那些原本计划采用ASML光刻机的用户更容易地迁移到尼康平台。
尼康还透露，其新一代浸没式ArF光刻机将采用创新的镜头和工件台设计，并且具有尺寸紧凑、易于维护的特点。这些技术优势将有助于尼康在市场上与ASML展开更激烈的竞争。尼康还表示，他们预计将在2030年后启动再下一代光刻机的开发工作。
