近期，国际科技界传来一则重要消息，荷兰高端光刻机制造商ASML公司正式宣告，其最新研发的EUV光刻机型号EXE:5200即将面世并交付客户。这款机器相较于前任型号，性能有了显著提升，但据称将不会对中国企业开放销售。
据悉，EXE:5200是在初代High NA EUV光刻机EXE:5000的基础上进行了全面升级。其最大的亮点在于晶圆吞吐量的激增，每小时可轻松处理超过185片晶圆，这对于2nm工艺的大规模生产无疑是一大利好。
早在之前，ASML就已宣布，业界首台TWINSCAN EXE:5200光刻机已被英特尔订购。这款光刻机不仅拥有高数值孔径，而且晶圆处理能力超过每小时200片，标志着0.55 NA EUV技术的又一重大突破。TWINSCAN EXE:5000与EXE:5200均装备了0.55数值孔径的透镜，相较于之前0.33数值孔径的透镜，精度实现了质的飞跃，为更小尺寸的晶体管功能提供了前所未有的高分辨率。
ASML公司强调，EUV 0.55 NA技术旨在从2025年起，应用于多个未来的技术节点，并逐步推广至类似密度的内存技术中。这一技术的推出，无疑将为半导体行业的发展注入新的活力，推动芯片制造迈向更高水平。
