据《日本经济新闻》报道，日本半导体制造企业Rapidus将迎来重要时刻，其购入的首台ASML EUV光刻机预计于2024年底抵达北海道新千岁机场。此举标志着日本将首次拥有EUV光刻设备，对日本半导体产业发展具有里程碑意义。
Rapidus高管透露，此次购入的EUV光刻机为0.33 NA型号，虽非最新款的0.55 NA（High NA）型号，但仍是当前先进技术的代表。为确保这台高精度设备安全运输，新千岁机场特地对相关路面进行了重新铺设，以减少振动对设备的影响。
ASML已在千岁市设立客户服务中心，以支持该设备的接收和后续服务工作。这一举措显示出ASML对日本市场的高度重视，同时也为Rapidus的先进制程技术发展提供了有力保障。
按照Rapidus的规划，公司计划在2025年4月启动先进制程原型线，该产线将配备包括这台EUV光刻机在内的200余台设备。目前，Rapidus的IIM-1晶圆厂建设进展顺利，已完成63%的施工进度。
▲ IIM-1晶圆厂概念图
除Rapidus外，日本还有其他晶圆厂计划引入EUV光刻技术。美光广岛工厂预计将在2025年内导入EUV设备，为2026年的1-gamma制程DRAM内存量产做准备。同时，台积电控股子公司JASM也预定在2027年投产的晶圆厂中引入EUV技术，以支持其6nm产线的生产。
随着EUV光刻技术的引入，日本半导体产业将迎来新的发展机遇。这些先进设备的投入使用将进一步提升日本在全球半导体市场的竞争力，推动日本半导体产业迈向新的高度。
