近日，长沙经开区内的顶立科技传来振奋人心的消息，该企业在先进材料制备领域取得了两项重大自主研发成果，均被权威机构认定为国际领先水平。这两项成果分别是“天然石墨高温绿色提纯技术与装备”和“第三代半导体用高均匀高致密TaC涂层石墨件制备技术及应用”。
在天然石墨提纯技术方面，顶立科技携手五矿石墨、南昌大学及北京工业大学等合作伙伴，共同攻克了传统湿法提纯工艺污染严重及间歇式高温提纯能耗高等难题。他们成功研发出连续式高温绿色提纯技术与成套装备，实现了天然石墨提纯由间歇式向连续式的跨越。这一突破不仅解决了超长作业空间3000℃级热场构建与保持、长时连续提纯动态密封与高效排杂等关键技术瓶颈，还在行业内首次实现了4N5以上天然石墨的大规模连续化生产，为人造金刚石及新一代半导体材料的稳定供应提供了坚实的装备技术支撑。
在第三代半导体材料领域，顶立科技同样取得了显著进展。针对石墨产品传统TaC涂层工艺中存在的技术难题，顶立科技与湖南三安半导体、南昌大学合作，成功开发出高均匀高致密TaC涂层石墨件制备技术及应用项目。通过突破6N以上高纯石墨基体提纯工艺及高均匀高致密TaC涂层制备技术，他们形成了从工艺到技术再到装备的完整TaC涂层石墨件制备体系，实现了高性能TaC涂层石墨件的批量稳定制备。这一成果对于保障国家第三代半导体产业链安全具有重要意义。
据顶立科技相关负责人介绍，此次两项国际领先成果的取得，充分展示了公司在高端材料装备领域的持续创新能力。该负责人还表示，顶立科技将继续深耕先进材料制备领域，加强产学研用协同创新，为我国半导体、新能源、航空航天等战略性新兴产业提供更加高水平的材料与装备解决方案，为实现产业链供应链的自主可控贡献力量。
